【48812】EUV光罩商场将迎来新变局
时间: 2024-08-03 06:47:00 | 作者: 开全站登录app
来历：内容由半导体职业调查（ID：icbank）翻译自「limo」，谢谢。
2019年的半导体光掩膜（Photomask）商场持续改写历史上最新的记载，与2018年比较同比增加15%，增至4,915亿日元（约人民币294.9亿元）。2019年半导体商场全体低迷、设备出资也不振。因为EUV光刻（Lithography）量产工程的导入、以我国为首的新式企业规划活动的鼓起，光掩膜商场呈现了较大的增加。
2019年时刻点EUV光掩膜商场规模超1,000亿日元（约人民币60亿元）
尽管光掩膜全体商场呈现了较大的增加，其间，传统的光刻膜（Lithography Mask）呈现了削减的趋势，而呈现较大增加的是EUV光掩膜。因为光掩膜克己厂家逐渐把EUV光掩膜投入到TSMC等的最顶级的工艺中，使EUV光掩膜商场呈现了增加。在2019年时刻点，EUV光掩膜商场规模已超越1,000亿日元（约人民币60亿元）。
2020年今后EUV光掩膜还将呈现持续增加的趋势。继最早导入了EUV的“N7+”代之后，TSMC计划在2020年开端量产“N5”。据猜测，“N5”有10层以上（是以往的2倍）的EUV层。相同，三星电子也完成了华城区域的EUV专用产线nm定位为“反扑”的首要手法，因而猜测未来EUV光刻的消费将会迎来巨大的增加。
因为较多的我国新式企业的活跃出资和规划活动，给光刻膜（Lithography Mask）带来了正面要素，可是跟着渐渐的变多的顶级工艺选用EUV，未来很难再呈现较大的商场增加。现在，外部的光掩膜经销商及厂家多以光刻为主战场，未来很可能堕入难以拓宽事务的僵局。远景较好的EUV光掩膜根本没希望从克己转为外购。
在2018年-2019年期间，克己光掩膜企业的制作产能吃紧，因而外购商场上呈现了巨大的二次需求，但未来是否会持续，仍存在疑问。因而，外部出售商厂家能从半导体出产厂商（以外部收买为根本政策的厂家）取得多少订单是他们生计的要害。
能否开辟我国本乡客户是拓宽未来事务的要害。现在在我国，许多新式企业不断涌现，大大都公司不得不依托对外收买来脱节技能妨碍。一直以来，光掩膜商场的克己率都在扩展，而因为我国商场的鼓起，未来克己率将会呈现下滑。
半导体光掩膜商场的克己份额约为70%，剩下30%为外购，首要是日本的凸版印刷、大日本印刷（DNP）、美国的福尼克斯公司（Photronics）等厂家。近年来，外购TOP1的凸版印刷专心于进步日本国内外的光掩膜出产产能，2018年1月份发布说，将在Toppan Photomasks, Inc.（TPI）的子公司----上海凸版光掩膜有限公司（TPCS）的厂房内导入顶级光掩膜的量产设备。自2018年以来，一直在整备65-40nm的出产体系，2020年1月开端发动14nm的产线。此外，我国台湾的中华凸版电子股份有限公司也导入了顶级光掩膜制作设备，凸版印刷的日本国内的朝霞工厂、我国大陆的上海工厂、我国的台湾工厂三处据点都可以出产顶级的光掩膜。
此外，在2019年8月份与首要客户----美国GF（Global Foundries，格罗方德半导体股份有限公司）缔结了长时刻供给光掩膜的合同，一起，凸版印刷还在收买了GF的光掩膜出产据点----伯灵顿工厂（佛蒙特州）的光掩膜相关的出产设备、财物。并把设备转移到TPI的圆石工厂（Round Rock，得克萨斯州），持续为GF供货。另一方面，坐落德国Dresden(德累斯顿)的两边的合资出资企业（Joint Venture）----“ AMTC（Advanced Mask Technology Center）”也有出产产线，且最近强化了出产体系。未来将持续强化光掩膜的出产。
此外，就凸版印刷的政策而言，未来不只要持续出产10nm及后续的光掩膜，还将持续研制估计会被7nm及后续工艺选用的EUV光掩膜等顶级产品。一起，未来还将考虑导入多束激光（Multi-beam）制作设备。
与凸版印刷并排的DNP是外部出售厂家中仅有持有多束激光（Multi-beam）制作设备的厂家。一般会用一束光在光掩膜上制作图画，近年来，为缩短制作时刻，逐渐开端导入大都激光等顶级工艺。特别是当一张光掩膜的制作图画极端繁复的时分，对EUV光掩膜而言特别需求多束激光进行制作。
DNP已经在日本国内的工厂----上福冈工厂（日本埼玉县富士见野市）导入了支撑多束激光的设备，且在2019年年初开端量产交货。现在，除了导入到了以28/14纳米为中心的光刻膜的出产中，还被用在了NIL（Nano-imprint Lithography，纳米压印技能）的Master Mold（主模）中。经过灵活运用光刻膜，来缩短制作时刻。
因为已具有多束激光制作设备，未来的焦点是EUV光掩膜。关于这一点，听说DNP正在考虑与协作伙伴协力共筑商业模式。且正在尽力在3年后使协作呈现效果，为成绩做出奉献。
就光刻光掩膜而言，DNP与美国的福尼克斯公司（Photronics）合资在我国厦门建立新工厂（PDMCX），DNP占资49.99%。2018年1月发布说，根据在我国的半导体光掩膜事务的协作协议，已完成了合资公司（JV，Joint Venture）的建立手续。计划在未来5年对新工厂出资1.6亿美元（约人民币11.2亿元），且已经在2019年开端量产出产。
未来，将以PDMCX为战略据点，愈加活跃地开辟我国商场。现在，DNP与美国的福尼克斯公司（Photronics）在我国商场的总占比约为55%-60%，且中期方针是取得70%的商场份额。
DNP与Kioxia（铠侠，原东芝存储半导体）的合资公司----D.T.Fine Electronics Co.,Ltd（株式会社）也跟着Kioxia存储半导体产能的扩展，计划在2020年扩展北上工厂的产能。